ひ
語句 |
別名 |
ページ |
| PSL | Photo Stimulated Luminescence | 177 |
| PMMA | ポリメチルメタクリレート | 53 |
| PKA | Primary Knock-on Atom,一次はじき出し原子 | 113 |
| p53 | 89 | |
| PCR解析 | 148 | |
| PCI効果 | Post Collision Interaction | 243,244 |
| BGO | 93 | |
| PCDF | ポリ塩化ジベンゾフラン | 100 |
| PCDD | ダイオキシン類 | 100 |
| PCB | ポリ塩化ビフェニル | 99 |
| ビーム-中性子の | 5 | |
| ビーム法 | 238 | |
| 非解離性電子付着 | nondissociative electron attachment | 233 |
| GaAs | 177 | |
| 光イオン化効率 | 248 | |
| 光イオン化量子収率 | 241 | |
| 光化学 | 33,217,253 | |
| 光吸収測定 | 197 | |
| 光吸収断面積 | 218,219,225 | |
| 光刺激発光 | 輝尽発光 | 176,177 |
| 光電子倍増管 | 176 | |
| 光パラメトリック(効果) | 163,164 | |
| 光物性 | 217 | |
| 引き抜き | 117 | |
| 非局在化(状態) | 259 | |
| 非極性溶媒 | 105 | |
| PIXE | 粒子誘起X線 | 11 |
| 非結晶シリカ | 115 | |
| 飛行時間型質量分析計 | 237 | |
| 飛行時間法 | time of flight | 259 |
| ピコ秒 | 197,200 | |
| 微細加工 | 157 | |
| 微細空孔 | 213 | |
| 微細構造 | fc | 203 |
| 微細構造項 | 203 | |
| 微細構造定数 | 218,226 | |
| 非晶質 | 139 | |
| 非晶質化 | 115 | |
| 飛跡 | 180 | |
| 飛跡構造 | 86 | |
| 飛跡構造シミュレーション | 86 | |
| 飛跡生成感度 | 136 | |
| 非線形最小二乗法 | 186 | |
| 非束縛的電子状態 | 226 | |
| 非弾性散乱 | 172 | |
| 非弾性衝突 | 31,113,127,230 | |
| 非断熱(的)遷移 | 236 | |
| ピックオフ消滅 | 212 | |
| ビッグバン | 101 | |
| ピッチ試料 | 205 | |
| 引張り試験 | 50 | |
| 飛程 | range | 142,217,223 |
| ヒドロキシシクロヘキサジエニルラジカル | 73 | |
| ヒドロキシルラジカル | 78,237 | |
| ビニリデン化合物 | 45 | |
| ビニル化合物 | 45 | |
| ビニルカルバゾール | 46 | |
| 比表面積 | 212 | |
| 微分吸収 | 218 | |
| 微分(反応)断面積 | 227,231 | |
| 比誘電率 | 221,256 | |
| Bühler | 111 | |
| ピュレックス法 | 74,75 | |
| 評価-自由体積の | 169 | |
| 標準化 | 178 | |
| 表面改質 | 139,140 | |
| 表面電化密度 | 70 | |
| Hirata | 64 | |
| 平山 | 106,189 | |
| 微粒子 | エアロゾル | 11 |
| 微粒子イオン | 157 | |
| 微量元素分析 | 157 | |
| Biersack | 128 | |
| ビルドアップ係数 | 218 | |
| 比例計数管 | proportional counter | 176 |
| 比例領域 | 176 | |
| 品種改良 | 12 |