し
語句 |
別名 |
ページ |
CR-39 | ジエチレングリコールビスアリルカーボネート | 136 |
g因子 | 203 | |
CANDU炉 | 74 | |
GSO | 93 | |
GM計数管 | Geiger-Müller counter | 176 |
CWレーザー | 163 | |
G値 | 25,33,59,78, |
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g値のずれ | 203 | |
CTスキャン画像 | 21 | |
Cバンド | 155 | |
Sv | シーベルト | 4,224 |
J-PARC | 172 | |
Jesse(効果) | 238 | |
ジエチレングリコール・ビス・アリルカーボネート | CR-39 | 136 |
ジェミネートイオン | 105 | |
ジェミネート(イオン)再結合 | 105,107,109,126, 210,247,250,251, 253,254,256 |
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ジェミネートイオン対 | 105,125,126,248, 251,256 |
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シェンケル方式 | 157 | |
紫外光電子分光法 | UPS | 211 |
紫外線耐性変異体 | 149 | |
時間依存Schrödinger方程式 | 236 | |
時間分解吸収分光 | 197 | |
時間分解発光分光 | 197 | |
時間を含む摂動論 | 203 | |
しきいエネルギー-イオン化の | 210 | |
磁気ディスク | 16 | |
磁気パルス圧縮法 | 201 | |
磁気モーメント | 203 | |
軸状配向 | 194 | |
シクロアルカン | 145 | |
シクロアルキルラジカル | 145 | |
シクロアルケン | 145 | |
シクロオクタン | 145 | |
シクロヘキサン | 145 | |
ジクロロメタン | 111 | |
刺激 | 2 | |
自己束縛励起子 | 115 | |
仕事関数 | 155 | |
四重極質量分析計 | 237 | |
指数関数 | 257 | |
指数関数型分布 | 106 | |
指数関数減衰 | Exponential Decasy | 185 |
JIS Z 4571 | 179 | |
Shida | 志田 | 110 |
失活過程-二次電子の | 223 | |
実効線量 | 4 | |
実効的誘電率 | 247 | |
質量分析計 | 183 | |
質量分析法 | 184 | |
自動イオン化(過程) | 226,238,241,242, 243 |
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自動電子脱離 | autodetachment | 233 |
磁場効果 | 203 | |
磁場効果-化学反応の | 206 | |
自発核分裂 | 172 | |
ジフェニルアントラセン | DPA | 248 |
ジャイアントパルス | 163 | |
尺度 | 178 | |
写真フィルム | 176 | |
自由イオン収率 | 125,126 | |
臭化メチル | 98 | |
重金属 | 78,80 | |
重原子 | 224 | |
重合度 | 132 | |
自由消滅 | 169 | |
重水 | 66 | |
重水素ランプ | 210 | |
自由電子 | 226 | |
周波数カウンター | 205 | |
修復機構 | 90 | |
修復ミス | 86 | |
Schuler | 60 | |
重粒子線 | 23,31 | |
重粒子線治療 | 89 | |
主鎖切断 | 126 | |
主鎖分解 | 133 | |
種子照射 | 148 | |
主値 | 204 | |
Stern-Volmerプロット | 185,187 | |
受動モードロック | 163 | |
Shpol'skii 効果 | シュポルスキー効果 | 193 |
寿命 | 185 | |
受容体 | Acceptor | 188 |
Shultz-Zimm分布 | 42 | |
準安定状態 | 238 | |
準安定励起原子電子放射顕微鏡 | 238 | |
硝酸 | 74 | |
硝酸ラジカル | 74 | |
小散乱角 | 228 | |
常磁性種 | 203 | |
照射温度 | 41,44 | |
照射効果 | 139,178 | |
照射施設 | 178 | |
照射線量 | 179,224 | |
照射雰囲気 | 43,178 | |
照射誘起拡散 | 114 | |
使用済核燃料再処理 | 75 | |
衝突 | 230 | |
衝突安定化 | 233 | |
衝突周波数 | 209 | |
衝突電離 | 169 | |
消滅ガンマ線 | 消滅γ線 | 92,170 |
ショート・トラック | 130 | |
ショートカット現象 | 120 | |
初期活性種 | 78 | |
初期過程 | 7,28,30,36,223 | |
初期空間分布 | 106 | |
初期再結合 | 125 | |
初期分布関数 | 105,256 | |
触媒連鎖反応 | 53 | |
食品照射 | 98 | |
食品照射関連項目 | 94 | |
除染 | 74 | |
除染係数 | 75 | |
Jonah | 64 | |
Jortner | 259 | |
Schiller | 260 | |
シリカ系誘電率層間絶縁膜試料 | 213 | |
シリコン | 177 | |
シリコンLSI作製プロセス | 139 | |
Zr基合金 | 114 | |
シロイヌナズナ | 149 | |
真空紫外光 | 111 | |
真空紫外領域 | 219 | |
シングルトラック | 90 | |
シングルパルス | 201 | |
シンクロサイクロトロン | 158 | |
シンクロトロン | 157,158 | |
シンクロトロン放射(光) | Synchrotron Radiation,SR | 11,155,161,210 |
人工関節 | 140 | |
人工硬膜 | 140 | |
進行波型 | 157 | |
診断 | 157 | |
シンチレーションカウンター | scintillation counter | 176 |
シンチレーション機構 | 107 | |
シンチレーション検出器 | 176 | |
振動・回転励起 | 228 | |
振動子強度 | 218 | |
振動子強度分布 | df/dE | 217,218,225,226 |
振動励起 | 225 | |
侵入型不純物原子 | 114 | |
信頼性 | 178 |