先端放射線化学シンポジウム2005(SARAC-2005)
「プラズマやダストが関与する反応過程の基礎と応用」
Symposium on Advanced Radiation Chemistry 2005
■テーマ
プラズマやダストが関与する反応過程の基礎と応用
■趣旨
次世代半導体やナノ材料を創製するためには,高度に制御されたプラズマ技術が必要とされている。プラズマ化学気相成長法(PECVD)やエッチングなど,荷電粒子やラジカルの気相および固体表面における反応過程を理解することが重要となる。本シンポジウムではプラズマ中の反応過程に関する研究や,プラズマを応用した種々の薄膜形成技術に関連するする研究を物理学・化学・天文学・工学など幅広い分野から募り,異分野間の交流と親睦を深めることを目的としています。
■場所
大阪大学産業科学研究所
■日時
2005年6月4日(土) 10:00〜19:00
■参加費
参加費無料,懇親会費 一般:\1,000 学生:\500
■プログラム
10:00〜12:00 招待講演(45分(講演)+15分(質疑))
10:00〜11:00 「大気圧プラズマCVDによる超高速成膜技術の開発」
垣内弘章(大阪大学大学院工学研究科 精密科学専攻)
11:00〜12:00 「Cat-CVD法の基礎と応用 気相診断,膜特性からデバイス応用まで」
増田 淳(独立行政法人産業技術総合研究所 太陽光発電研究センター)
13:00〜14:30 ポスターセッション → プログラムダウンロード
14:30〜16:30 招待講演(45分(講演)+15分(質疑))
14:30〜15:30 「プラズマ中でのダストの構造変化」
墻内千尋(立命館大学理工学部 物理科学科)
15:30〜16:30 「コンプレックスプラズマ中のクーロンクラスター」
石原 修(横浜国立大学大学院工学研究院 知的構造の創成部門)
17:00〜19:00 懇親会(阪大産研)
■締切
一般講演(ポスター発表)およびアブストラクト(A4 1枚) 申込締切 5月17日(火)
参加申込 当日まで受け付けますが,できる限り5月末までにお申し込み下さい。
注:ポスター発表はタイトルのプラズマやダストと関係なくとも構いません。
詳細はPDFファイルをご覧下さい。 → PDFファイルのダウンロード
■会場までの交通
http://www.sanken.osaka-u.ac.jp/map.htmlを参照下さい。
■問い合わせ先
柴田裕実
京都大学大学院工学研究科 原子核工学専攻量子システム工学グループ(量子ビーム科学講座)
〒606-8501 京都市左京区吉田本町
TEL/FAX:075-753-3354
E-mail:shibata@nucleng.kyoto-u.ac.jp
■参加・講演申し込み先・予稿原稿送付先
佐藤哲也
山梨大学 クリーンエネルギー研究センター 太陽電池・環境科学研究部門
〒400-8511 甲府市武田4-3-11
TEL/FAX:055-220-8627
E-mail:sato@ab11.yamanashi.ac.jp
■主催・共催・協賛
主催:日本放射線化学会,大阪大学産業科学研究所産業科学ナノテクノロジーセンター
共催:日本化学会,日本原子力学会,日本物理学会,応用物理学会
協賛:原子衝突研究協会
■組織委員会
日本放射線化学会 企画広報委員会
中川和道 神戸大学 発達科学部(委員長)
柴田裕実 京都大学大学院工学研究科
佐藤哲也 山梨大学 クリーンエネルギー研究センター
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